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Hollow Cathode Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Using Pentachlorodisilane
空心阴极等离子体增强五氯二硅氮化硅原子层沉积
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材料科学
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Xin Meng; Harrison Sejoon Kim; Antonio T. Lucero; Su Min Hwang; Joy S. Lee; et al 出版日期:2018-03-17 |
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