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 Experimental investigation of a high-k reticle absorber system for EUV lithography 用于极紫外曝光的高k分划板吸收器系统的实验研究
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期刊： 作者：Jo Finders; Robbert de Kruif; Frank Timmermans; Jara G. Santaclara; Bryan Connolly; et al 出版日期：2019-05-01 |
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