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 High-temperature stability of PECVD-derived organosilica membranes deposited on TiO2 and SiO2–ZrO2 intermediate layers using HMDSO/Ar plasma HMDSO/Ar等离子体在TiO2和SiO2-ZrO2中间层上沉积的PECVD衍生有机二氧化硅膜的高温稳定性
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期刊：Separation and Purification Technology 作者：Hiroki Nagasawa; Toshihiro Minamizawa; Masakoto Kanezashi; Tomohisa Yoshioka; Toshinori Tsuru 出版日期：2013-11-01 |
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