The effect of fluorine in silicon dioxide gate dielectrics

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标题	The effect of fluorine in silicon dioxide gate dielectrics 氟在二氧化硅栅介质中的作用相关领域 NMOS逻辑氟栅氧化层栅极电介质氧化物电介质硅二氧化硅材料科学氟化物离子分析化学（期刊）无机化学光电子学化学电气工程晶体管复合材料冶金有机化学电压工程类
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx1/16/7416/00299669.pdf?arn...
DOI	10.1109/16.299669 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：P.J. Wright; K.C. Saraswat 出版日期：2002-08-25
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