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Aluminum‐Doped Indium Oxide Electron Transport Layer Grown by Atomic Layer Deposition: Highly Efficient and Damage‐Resistant Interconnection Solution for All‐Perovskite Tandem Solar Cells with 25.46% Efficiency
原子层沉积生长的铝掺杂氧化铟电子传输层:全钙钛矿叠层太阳能电池高效抗损伤互连解决方案,效率为25.46%
相关领域
原子层沉积
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期刊:Small 作者:Pil Ju Youn; Mun Young Woo; Jong Hyeon Won; Jeong Min Im; Jun Hyuk Lee; et al 出版日期:2024-10-23 |
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