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 The Hidden Potential of Polysilsesquioxane for High‐k: Analysis of the Origin of its Dielectric Nature and Practical Low‐Voltage‐Operating Applications beyond the Unit Device 聚倍半硅氧烷用于高k的潜在潜力：分析其介电性质的起源和超越单元器件的实际低压工作应用
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期刊：Advanced Functional Materials 作者：Heqing Ye; Hyeok‐jin Kwon; Su Cheol Shin; Hwi‐young Lee; Youngho Park; et al 出版日期：2021-10-19 |
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