| 标题 |
 Highly-selective Electrocatalytic Reduction of NO to NH3 using Cu Embedded WS2 Monolayer as Single-atom Catalyst: A DFT Study 采用铜嵌入WS 2单层作为单原子催化剂高选择性电催化还原NO为NH3：密度系数研究
相关领域
催化作用
单层
过渡金属
选择性
Atom（片上系统）
密度泛函理论
化学
材料科学
计算化学
纳米技术
有机化学
计算机科学
嵌入式系统
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
彭于彦祖
吃不饱星球球长
爱静静
tianzml0
oceanao
iNk
Henry
HEIKU
iWatchTheMoon
几酌
寻道图强
子车茗
shinysparrow
高xuewen
hujin
夏远航
苏卿
哎嘿
pcr163
含蓄的明雪
皖公网安备34019202002308
