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Thermal conductance at atomically clean and disordered silicon/aluminum interfaces: A molecular dynamics simulation study
原子级清洁和无序硅/铝界面的热导率:分子动力学模拟研究
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Woon Ih Choi; Kwiseon Kim; Sreekant Narumanchi 出版日期:2012-09-01 |
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