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 Photolithography with transparent reflective photomasks 使用透明反射光掩模的光刻
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Dong Qin; Younan Xia; Andrew J. Black; George M. Whitesides 出版日期：1998-01-01 |
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