| 标题 |
[高分]
 Kinetics of the initial stages of film formation during low pressure chemical vapour deposition of polysilicon by pyrolysis of silane 硅烷热解低压化学气相沉积多晶硅初期成膜动力学
相关领域
硅烷
热解
化学气相沉积
动力学
材料科学
沉积（地质）
化学工程
复合材料
纳米技术
古生物学
物理
量子力学
沉积物
生物
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal de Physique IV (Proceedings) 作者：L. Zambov; Brigitte Caussat; R. Boubeker; J.P. Couderc 出版日期：2001-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
nozero
科研小民工
苏卿
昏睡的蟠桃
小杨同学
SYLH
Leon
shinysparrow
zho
迟大猫
bc
cdercder
VDC
36456657
默默地读文献
彭于彦祖
史小菜
goodnight
一般路过kamenride
从容芮
皖公网安备34019202002308
