标题 |
![]() 使用原位甲酸蒸汽处理的细间距(≤10µm)直接Cu-Cu互连
相关领域
互连
甲酸
铜
薄脆饼
材料科学
原位
硅
抗剪强度(土壤)
化学工程
复合材料
光电子学
化学
冶金
计算机科学
有机化学
计算机网络
土壤水分
土壤科学
工程类
环境科学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊: 作者:SivaChandra Jangam; Adeel Ahmed Bajwa; Umesh Mogera; Pranav Ambhore; Tom Colosimo; et al 出版日期:2019-05-01 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|