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 Microstructure and electronic properties of microcrystalline silicon carbide thin films prepared by hot-wire CVD 热丝CVD制备微晶碳化硅薄膜的结构和电子性能
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期刊：Thin Solid Films 作者：T. Chen; F. Köhler; A. Heidt; Y. Huang; F. Finger; R. Carius 出版日期：2011-02-02 |
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