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Atomic layer deposition of InN using trimethylindium and ammonia plasma
三甲基铟和氨等离子体原子层沉积InN
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期刊:Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films 作者:Petro Deminskyi; Polla Rouf; Ivan G. Ivanov; Henrik Pedersen 出版日期:2019-02-26 |
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