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X-ray critical dimension metrology solution for high aspect ratio semiconductor structures
半导体高宽比结构的X射线临界尺寸测量方法
相关领域
计量学 德拉姆 吞吐量 临界尺寸 薄脆饼 计算机科学 材料科学 纵横比(航空) 平版印刷术 架空(工程) 钥匙(锁) 电子工程 光电子学 光学 计算机硬件 工程类 操作系统 物理 无线
网址
DOI
10.1117/12.2583966 doi
其它 期刊:Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV
作者:Matthew Wormington; Adam Ginsburg; Israel Reichental; Alex Dikopoltsev; Alex Krokhmal; et al
出版日期:2021-02-22
求助人
BroRooney_ 在 2024-09-13 15:18:40 发布自广东,悬赏 20 积分
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