标题 |
Impact of Air Exposure on Growth Rate and Electrical Properties of SnO2 Thin Films by Atmospheric Pressure Spatial Atomic Layer Deposition
空气暴露对常压空间原子层沉积SnO2薄膜生长速率和电学性能的影响
相关领域
分析化学(期刊)
材料科学
薄膜
化学
纳米技术
环境化学
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DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Physics D 作者:Haijing Tran; Ngoc Linh Nguyen; Trung Kien Mac; Duc Anh Duong; Thuong Thi Nguyen; et al 出版日期:2023-10-18 |
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