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 CuI: A Promising Halide for Thermoelectric Applications below 373 K CuI：一种有前途的373 K以下热电应用卤化物
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期刊：ACS applied energy materials 作者：M. Almasoudi; Abdu Saeed; Numan Salah; Ahmed Alshahrie; P.M.Z. Hasan; et al 出版日期：2022-08-02 |
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