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![]() 特邀社论:集成电路图案化方差的控制,第3部分:图案粗糙度、局部均匀性和随机缺陷
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期刊:Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者:John C. Robinson; Tim Brunner; Gian F. Lorusso 出版日期:2018-11-30 |
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