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 Re-examination of the Aqueous Stability of Atomic Layer Deposited (ALD) Amorphous Alumina (Al2O3) Thin Films and the Use of a Postdeposition Air Plasma Anneal to Enhance Stability 原子层沉积（ALD）非晶氧化铝（Al2O3）薄膜水稳定性的再检验和沉积后空气等离子体退火提高稳定性的应用
相关领域
原子层沉积
无定形固体
水溶液
退火（玻璃）
薄膜
X射线光电子能谱
化学工程
材料科学
氧化物
热稳定性
氢氧化物
无机化学
化学
纳米技术
冶金
有机化学
结晶学
工程类
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| 其它 |
期刊：Langmuir 作者：Simon A. Willis; Emily K. McGuinness; Yi Li; Mark D. Losego 出版日期：2021-12-01 |
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