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 Optimization of silicon etch rate in a CF4/Ar/O2 inductively coupled plasma CF4/Ar/O2电感耦合等离子体中硅蚀刻速率的优化
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Dmitry Levko; Laxminarayan L. Raja 出版日期：2022-04-18 |
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