Influence of RF power and CH4 flow rate on properties of diamond-like carbon films deposited by PECVD technique - 科研通

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标题	Influence of RF power and CH4 flow rate on properties of diamond-like carbon films deposited by PECVD technique 射频功率和CH4流量对PECVD沉积类金刚石薄膜性能的影响相关领域等离子体增强化学气相沉积 X射线光电子能谱拉曼光谱材料科学类金刚石碳化学气相沉积氧烷体积流量分析化学（期刊）碳纤维碳膜基质（水族馆）钛钻石光谱学薄膜化学工程化学纳米技术光学复合材料物理地质学工程类海洋学复合数冶金量子力学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2020.109073
DOI	10.1016/j.radphyschem.2020.109073 doi
其它	期刊：Radiation Physics and Chemistry 作者：Thanun Chunjaemsri; Ekachai Chongsereecharoen; Narong Chanlek; Pinit Kidkhunthod; Hideki Nakajima; et al 出版日期：2020-11-01
求助人	研人员在 2024-10-11 11:46:16 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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