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 Schottky barrier height reduction for holes by Fermi level depinning using metal/nickel oxide/silicon contacts 使用金属/氧化镍/硅接触通过费米能级去钉扎降低空穴的肖特基势垒高度
相关领域
肖特基势垒
材料科学
非阻塞I/O
欧姆接触
硅
凝聚态物理
镍
光电子学
绝缘体上的硅
肖特基二极管
费米能级
氧化镍
电子
纳米技术
二极管
冶金
化学
生物化学
物理
图层（电子）
量子力学
催化作用
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Raisul Islam; Gautam Shine; Krishna C. Saraswat 出版日期：2014-11-03 |
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