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 Low-temperature and scalable CVD route to WS2 monolayers on SiO2/Si substrates SiO2/Si衬底上WS2单层的低温可扩展CVD路线
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Stéphane Cadot; O. Renault; D. Rouchon; D. Mariolle; Emmanuel Nolot; et al 出版日期：2017-08-03 |
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