标题 |
Chemically-amplified backbone scission (CABS) resist for EUV lithography
用于EUV光刻的化学放大骨架断裂(CABS)抗蚀剂
相关领域
抵抗
极紫外光刻
平版印刷术
材料科学
下一代光刻
光刻胶
光刻
X射线光刻
多重图案
极端紫外线
光电子学
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其它 |
期刊: 作者:Theodoros Manouras; Dimitrios Kazazis; Yasin Ekinci 出版日期:2021-03-31 |
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