标题 |
Employing Ion-Beam Sputter Deposited TiO2 Buffer Layers for VO2-Related Devices
离子束溅射沉积TiO2缓冲层用于VO2相关器件
相关领域
材料科学
溅射
金红石
锐钛矿
无定形固体
缓冲器(光纤)
结晶度
薄膜
离子束
分析化学(期刊)
光电子学
化学工程
离子
纳米技术
复合材料
化学
结晶学
光催化
电信
生物化学
有机化学
色谱法
计算机科学
工程类
催化作用
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:ACS Applied Electronic Materials 作者:Martin Becker; Florian Kühl; Jonas Rahlf Hauptmann; Jill Kessler; Sebastian L. Benz; et al 出版日期:2023-06-19 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|