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标题
Employing Ion-Beam Sputter Deposited TiO2 Buffer Layers for VO2-Related Devices
离子束溅射沉积TiO2缓冲层用于VO2相关器件
相关领域
材料科学 溅射 金红石 锐钛矿 无定形固体 缓冲器(光纤) 结晶度 薄膜 离子束 分析化学(期刊) 光电子学 化学工程 离子 纳米技术 复合材料 化学 结晶学 光催化 电信 生物化学 有机化学 色谱法 计算机科学 工程类 催化作用
网址
DOI
10.1021/acsaelm.3c00199 doi
其它 期刊:ACS Applied Electronic Materials
作者:Martin Becker; Florian Kühl; Jonas Rahlf Hauptmann; Jill Kessler; Sebastian L. Benz; et al
出版日期:2023-06-19
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认真的烧鹅 在 2024-12-29 00:51:52 发布自北京,悬赏 10 积分
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