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  Plasma-enhanced atomic layer deposition: Correlating O2 plasma parameters and species to blister formation and conformal film growth 相关领域
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Andreas Werbrouck; Kevin Van de Kerckhove; Diederik Depla; Dirk Poelman; Philippe Smet; et al 出版日期：2021-12-01 |
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