Enhanced Hole Mobility and Decreased Ion Migration Originated from Interface Engineering for High Quality PSCs with Average FF beyond 80%

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标题	Enhanced Hole Mobility and Decreased Ion Migration Originated from Interface Engineering for High Quality PSCs with Average FF beyond 80% 相关领域材料科学钙钛矿（结构）结晶电子迁移率 X射线光电子能谱晶界能量转换效率微晶离子迁移光谱法载流子寿命化学工程光电子学离子结晶学化学硅复合材料有机化学工程类微观结构冶金
网址	https://doi.org/10.1002/smtd.202200260
DOI	10.1002/smtd.202200260 doi
其它	期刊：Small methods 作者：Xiaoli Gong; Haoyue Li; Xingchong Liu; Dewei Zhao; Hanyu Wang; et al 出版日期：2022-04-24
求助人	点金石在 2023-04-03 23:01:19 发布自浙江，悬赏 10 积分
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