Interface control of tetragonal ferroelectric phase in ultrathin Si-doped HfO2 epitaxial films

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标题	Interface control of tetragonal ferroelectric phase in ultrathin Si-doped HfO2 epitaxial films 相关领域薄膜凝聚态物理兴奋剂硅电介质相变退火（玻璃）
网址	https://doi.org/10.1016/j.actamat.2021.116696
DOI	10.1016/j.actamat.2021.116696 doi
其它	期刊：Acta Materialia 作者：Tao Li; Juncai Dong; Nian Zhang; Zicheng Wen; Zhenzhong Sun; et al 出版日期：2021
求助人	与你绝缘在 2021-07-13 17:20:30 发布，悬赏 10 积分
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