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标题
Cleaning Effects by NH4OH Solution on Surface of Cu Film for Semiconductor Devices
相关领域
清洁剂 X射线光电子能谱 材料科学 脱脂 成分 核化学 硅酸钠 氧化物 冶金 化学
网址
DOI
10.3740/MRSK.2012.22.9.459 doi
其它 期刊:Korean Journal of Materials Research
作者:Youn-Seoung Lee; Sang-Soo Noh; Sa-Kyun Rha
出版日期:2012
求助人
伯赏鹤轩 在 2022-08-12 17:42:37 发布自北京,悬赏 10 积分
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