Sulfurization Engineering of One‐Step Low‐Temperature MoS 2 and WS 2 Thin Films for Memristor Device Applications

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标题	Sulfurization Engineering of One‐Step Low‐Temperature MoS 2 and WS 2 Thin Films for Memristor Device Applications 相关领域材料科学薄脆饼神经形态工程学薄膜光电子学电阻随机存取存储器记忆电阻器蓝宝石电阻式触摸屏纳米技术电子工程电气工程计算机科学电压工程类人工神经网络机器学习光学物理计算机视觉激光器
网址	https://doi.org/10.1002/aelm.202100515
DOI	10.1002/aelm.202100515 doi
其它	期刊：Advanced Electronic Materials 作者：Yuqian Gu; Martha I. Serna; Sivasakthya Mohan; Alejandra Londoño‐Calderon; Taimur Ahmed; et al 出版日期：2021
求助人	噼里啪啦在 2021-11-18 11:14:26 发布，悬赏 10 积分
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