标题 |
Relaxation Induced by Imprint Phenomena in Low-Temperature (400 °C) Processed Hf0.5Zr0.5O2-Based Metal-Ferroelectric-Metal Capacitors
相关领域
电容器
材料科学
铁电性
极化(电化学)
放松(心理学)
电压
光电子学
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电介质
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社会心理学
工程类
物理化学
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DOI | |
其它 |
期刊:ACS Applied Electronic Materials 作者:Jaidah Mohan; Yong Chan Jung; Heber Hernandez-Arriaga; Jin-Hyun Kim; Takashi Onaya; et al 出版日期:2022 |
求助人 |
GuoliangTian 在
2022-03-11 18:52:28 发布,悬赏 10 积分
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