| 标题 |
 ALD Options for Si-integrated Ultrahigh-density Decoupling Capacitors in Pore and Trench Designs 相关领域
材料科学
电容器
沟槽
光电子学
德拉姆
电介质
高-κ电介质
电容
解耦（概率）
堆栈（抽象数据类型）
硅
原子层沉积
泄漏（经济）
陶瓷电容器
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：ECS Transactions 作者：F. Roozeboom; Johan Klootwijk; Jan Verhoeven; Eric van den Heuvel; Wouter Dekkers; et al 出版日期：2007-07-19 |
| 求助人 |
ShujunOvO 在
2022-05-12 10:28:36 发布，悬赏 10 积分
|
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
随机子
梁朝伟
寻道图强
Meredith
嗯哼
杳鸢
张子捷
kento
Zinc
暗冰不冻
8R60d8
shinysparrow
aha
吃不饱星球球长
xiaojcom
一杯茶
ss25
sutharsons
充电宝
完美世界
皖公网安备34019202002308
