A new approach to achieving strong ferroelectric properties in TiN/Hf0.5Zr0.5O2/TiN devices

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标题	A new approach to achieving strong ferroelectric properties in TiN/Hf0.5Zr0.5O2/TiN devices 实现TiN/Hf0.5Zr0.5O2/TiN器件强铁电性能的新途径相关领域氧化锡电介质
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6528/abc115
DOI	10.1088/1361-6528/abc115 doi
其它	期刊：Nanotechnology 作者：Hyungwoo Kim; Alireza Kashir; Seungyeol Oh; Hyunsang Hwang 出版日期：2020
求助人	褚海在 2021-08-12 15:49:37 发布，悬赏 10 积分
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