| 标题 |
[求助补充材料]
 MoS2 for Enhanced Electrical Performance of Ultrathin Copper Films MoS 2提高超薄铜膜的电气性能
相关领域
材料科学
铜
纳米技术
光电子学
工程物理
冶金
工程类
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| 其它 |
期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Tingting Shen; Daniel Valencia; Qingxiao Wang; Kuang‐Chung Wang; Michael Povolotskyi; et al 出版日期：2019-07-09 |
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