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 Impact of the pre amorphization by Ge implantation on Ni0.9Pt0.1 silicide 锗注入对Ni0.9Pt 0.1硅化物预非晶化的影响
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：C. Delwail; S. Joblot; F. Mazen; F. Abbate; Laurent Lachal; et al 出版日期：2021-12-31 |
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