High growth rate chemical vapor deposition of graphene under low pressure by RF plasma assistance

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标题	High growth rate chemical vapor deposition of graphene under low pressure by RF plasma assistance 射频等离子体辅助低压高生长速率化学气相沉积石墨烯相关领域石墨烯化学气相沉积成核材料科学增长率等离子体化学工程铜等离子体增强化学气相沉积基质（水族馆）分析化学（期刊）纳米技术化学冶金环境化学几何学数学物理有机化学海洋学量子力学地质学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.carbon.2015.10.061
DOI	10.1016/j.carbon.2015.10.061 doi
其它	期刊：Carbon 作者：Ryuichi Kato; Satoshi Minami; Yoshinori Koga; Masataka Hasegawa 出版日期：2015-10-24
求助人	优秀瑞在 2024-11-11 10:47:03 发布自河北，悬赏 10 积分
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