| 标题 |
 Substrate temperature induced structure transformation in plasma film deposition process 等离子体薄膜沉积过程中衬底温度诱导的结构转变
相关领域
材料科学
等离子体
沉积（地质）
基质（水族馆）
过程（计算）
化学工程
转化（遗传学）
薄膜
复合材料
冶金
纳米技术
化学
操作系统
基因
计算机科学
生物化学
地质学
生物
工程类
沉积物
量子力学
物理
海洋学
古生物学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Ruixue Wang; Yuchen Liu; Shuang Xue; Pengcheng Xie; Weimin Yang 出版日期：2022-11-16 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
毛豆
cocolu
ceeray23
丰知然
VDC
Jason
彭于彦祖
模糊中正
tuanheqi
十七
卡卡
pluto
无名老大
36456657
我是站长才怪
iNk
sutharsons
方羽
5度转角
不配.
皖公网安备34019202002308
