Two-photon nanolithography of positive photoresist of AZ 5214E with a spatial resolution at nanoscale

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标题	Two-photon nanolithography of positive photoresist of AZ 5214E with a spatial resolution at nanoscale AZ 5214E正性光刻胶的纳米空间分辨率双光子纳米光刻相关领域光刻胶纳米光刻纳米尺度沟槽材料科学拉曼光谱纳米技术分辨率（逻辑）拉曼散射图像分辨率光电子学平版印刷术光学物理计算机科学制作医学图层（电子）替代医学人工智能病理
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.22.1.013001
DOI	10.1117/1.jmm.22.1.013001 doi
其它	期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Guo-Juan Xu; Qianhua Li; Cheng Chen; Rong Zhou; Xiaojie Li; et al 出版日期：2023-03-02
求助人	柏不斜在 2024-10-19 21:40:21 发布自陕西，悬赏 20 积分
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