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 Single mask solution to pattern BLP and SNLP using 0.33NA EUV for next-generation DRAM manufacturing 用于下一代DRAM制造的0.33 Na EUV模式BLP和SNLP的单掩模解决方案
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期刊： 作者：Kaushik Sah; Andrew Cross; Sayantan Das; Roberto Fallica; Jeong-Hoon Lee; et al 出版日期：2022-12-01 |
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