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Influence of oxygen pressure on the ferroelectricity of pulsed laser deposition fabricated epitaxial Y-doped HfO2
氧压对脉冲激光沉积外延Y掺杂HfO2铁电性的影响
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脉冲激光沉积 外延 材料科学 铁电性 兴奋剂 氧气压力 沉积（地质） 光电子学 氧气 薄膜 激光器 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 光学 电介质 古生物学 物理 有机化学 图层（电子） 色谱法 沉积物 生物
网址
https://doi.org/10.1063/5.0206267
AI链接 aip.orgdoi.org
DOI
10.1063/5.0206267 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Jia-hao Huang; Lei Yang; Lu-qi Wei; T B Wang; Wencheng Fan; et al
出版日期：2024-07-03
求助人
torjain 在 2025-04-02 06:40:24 发布，悬赏 10 积分
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