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Cross‐Substitution Promoted Ultrawide Bandgap up to 4.5 eV in a 2D Semiconductor: Gallium Thiophosphate
交叉取代促进二维半导体材料的超宽带隙高达4.5 eV
相关领域
材料科学
半导体
响应度
光电探测器
紫外线
带隙
光电子学
单层
直接和间接带隙
纳米技术
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其它 |
期刊:Advanced materials 作者:Yong Yan; Juehan Yang; Juan Du; Xiaomei Zhang; Yueyang Liu; et al 出版日期:2021-04-19 |
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