SiC Epitaxial Growth in a 7x100mm/3x150mm Horizontal Hot-Wall Batch Reactor

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标题	SiC Epitaxial Growth in a 7x100mm/3x150mm Horizontal Hot-Wall Batch Reactor 7 x 100 mm/3 x 150 mm水平热壁间歇反应器中的SiC生长相关领域外延材料科学薄脆饼兴奋剂表面粗糙度光电子学表面光洁度复合材料图层（电子）
网址	https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.821-823.165
DOI	10.4028/www.scientific.net/msf.821-823.165 doi
其它	期刊：Materials science forum 作者：T. Höchbauer; Mario Leitner; R. Kern; M. Künle 出版日期：2015-06-01
求助人	liu 在 2024-09-04 16:44:36 发布自河南，悬赏 30 积分
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