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Erratum: “Understanding chemical and physical mechanisms in atomic layer deposition” [J. Chem. Phys. 152, 040902 (2020)]
勘误表:“理解原子层沉积中的化学和物理机制”[J.Chem.Phys.152,040902(2020)]
相关领域
原子层沉积
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期刊:The Journal of Chemical Physics 作者:Nathaniel E. Richey; Camila de Paula; Stacey F. Bent 出版日期:2024-02-26 |
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