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 Etch proximity correction through machine-learning-driven etch bias model 基于机器学习驱动的蚀刻偏置模型的蚀刻邻近校正
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Seongbo Shim; Young-Soo Shin 出版日期：2016-03-23 |
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