Study of recrystallization and activation processes in thin and highly doped silicon-on-insulator layers by nanosecond laser thermal annealing

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标题	Study of recrystallization and activation processes in thin and highly doped silicon-on-insulator layers by nanosecond laser thermal annealing 高掺杂绝缘体上硅薄膜的纳秒激光热退火再结晶和活化过程研究相关领域材料科学再结晶（地质）退火（玻璃）硅成核兴奋剂小丘薄膜掺杂剂绝缘体上的硅表面粗糙度离子注入光电子学分析化学（期刊）复合材料纳米技术化学生物离子古生物学有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/5.0073827 AI链接 archives-ouvertes.fr archives-ouvertes.fr laas.hal.science laas.hal.science hal.science hal.science laas.hal.science hal.science hal.sciencedoi.org
DOI	10.1063/5.0073827 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Nicolas Chery; M. Zhang; Richard Monflier; Nicolas Mallet; G. Seine; et al 出版日期：2022-02-10
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