Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride with Colloidal Silica

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标题	Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride with Colloidal Silica 二氧化硅化学机械抛光氮化镓相关领域抛光氮化镓化学机械平面化镓材料科学胶体二氧化硅氮化物胶体铟镓氮化物冶金纳米技术化学工程图层（电子）工程类涂层
网址	https://doi.org/10.1149/2.024112jes
DOI	10.1149/2.024112jes doi
其它	期刊：Journal of the Electrochemical Society 作者：Hideo Aida; Hideo Aida; Koji Koyama; Haruji Katakura; Kazuhiko Sunakawa; et al 出版日期：2011-01-01
求助人	lry 在 2024-04-20 09:24:13 发布自山东，悬赏 10 积分
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