标题 |
![]() 紫外辅助纳米压印光刻:硅中负载效应对金属透镜纳米级图案的影响
相关领域
纳米压印光刻
纳米尺度
材料科学
平版印刷术
纳米技术
硅
纳米光刻
下一代光刻
电子束光刻
光电子学
抵抗
制作
医学
替代医学
病理
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Nanoscale advances 作者:Zahrah Alnakhli; Zhiyuan Liu; Feras AlQatari; Haicheng Cao; Xiaohang Li 出版日期:2024-01-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|