Foundations of physical vapor deposition with plasma assistance

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标题	Foundations of physical vapor deposition with plasma assistance 等离子体辅助物理气相沉积的基础相关领域溅射蒸发物理气相沉积电子束物理气相沉积沉积（地质）等离子体阴极电弧沉积薄膜溅射沉积汽化涂层电离离子镀材料科学电弧原子物理学化学离子纳米技术阴极保护电极古生物学物理物理化学量子力学有机化学沉积物生物电化学热力学
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6595/ac7f53
DOI	10.1088/1361-6595/ac7f53 doi
其它	期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Jón Tómas Guðmundsson; André Anders; Achim von Keudell 出版日期：2022-08-01
求助人	了阿郎在 2024-04-09 16:06:47 发布自江苏，悬赏 10 积分
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