Mechanisms for enhanced ferroelectric properties in ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 film under low-temperature, long-term annealing

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标题	Mechanisms for enhanced ferroelectric properties in ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 film under low-temperature, long-term annealing 低温长时间退火增强超薄Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜铁电性能的机理相关领域材料科学铁电性电介质退火（玻璃）矫顽力光电子学成核非易失性存储器铁电电容器电容器复合材料凝聚态物理电压电气工程物理工程类有机化学化学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0223115
DOI	10.1063/5.0223115 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Lu Tai; Xiaopeng Li; Xiaoyu Dou; Pengpeng Sang; Xuepeng Zhan; et al 出版日期：2024-08-26
求助人	欲与天公试比高在 2024-10-14 16:32:27 发布自浙江，悬赏 10 积分
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