Ultrathin photoresists for EUV lithography

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标题	Ultrathin photoresists for EUV lithography 用于EUV光刻的超薄光刻胶相关领域抵抗极紫外光刻平版印刷术材料科学光刻胶极端紫外线薄膜光学光电子学纳米技术光刻图层（电子）物理激光器
网址	https://doi.org/10.1117/12.351135
DOI	10.1117/12.351135 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Veena Rao; Jonathan Cobb; Craig C. Henderson; Uzodinma Okoroanyanwu; Dan R. Bozman; et al 出版日期：1999-06-25
求助人	王小壮在 2024-10-10 08:45:20 发布自山东，悬赏 20 积分
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