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Atomistic mechanisms of SiC electrochemical mechanical polishing in aqueous H2O2: A ReaxFF molecular dynamics study
H2O2水溶液中SiC电化学机械抛光的原子机理：ReaxFF分子动力学研究
相关领域
雷亚克夫 材料科学 分子动力学 水溶液 电化学 抛光 化学机械平面化 纳米技术 化学物理 复合材料 物理化学 计算化学 原子间势 电极 物理 化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.jmapro.2025.01.053
DOI
10.1016/j.jmapro.2025.01.053 doi
其它 期刊：Journal of Manufacturing Processes
作者：Rui Zhu; Tianyu Zhang; Qingyu Yao; Peng Yang; Feng Cheng; et al
出版日期：2025-01-26
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Z01 在 2025-02-27 14:21:35 发布自吉林，悬赏 10 积分
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